更新时间:2015.12.03
【摘要】集成电路布图设计是集成电路研制过程中的重要环节,属于无形的智力劳动成果,且具有可复制性和非任意性。专利法、版权法和商业秘密手段在集成电路布图设计的保护上都存在着各自的弊端,无法为其提供完整有效的保护。因此,有必要制定专门的法律,以保护布图设计上的知识产权。自美国颁布专门立法之后,有关国家或地区纷纷效仿,国际条约也相应产生。华盛顿条约和TRIPS协定是关于集成电路布图设计的主要国际立法。华盛顿条约由于美国、日本等发达国家的抵制至今尚未生效,但其奠定了集成电路布图设计的国际法保护基础。TRIPS协定在援引华盛顿条约部分条款的同时,在保护范围、强制许可、保护期限和善意侵权等制度上作出了相应修改和补充,更大程度地体现了发达国家的利益。根据TRIPS协定的有关规定,wTO成员负有条约义务在本国或地区保护集成电路布图设计。美国的《半导体芯片保护法》是全世界第一部集成电路布图设计领域的专门立法。由于该法中规定的对等原则,日本、欧共体和韩国相继依据《半导体芯片保护法》进行国内立法。而上述各法中的权利主体、保护对象、权利限制等条款均存在一定程度的差别。通过比较,可见欧共体和韩国的国内/区域立法基本体现了TRIPS协定规定的义务,而美国和日本则需要进行相应的修改以符合TRIPS协定的要求。作为WTO的成员,我国制定了《集成电路布图设计保护条例》,其内容与TRIPS协定基本相一致。近年来,我国集成电路布图设计的登记数量和商业利用率都在快速增长,呈现较为活跃的态势。在布图设计专有权纠纷中,可能涉及的重要问题包括明确布图设计权的起算时间及反向工程的合法性界定标准。为了完善我国的布图设计保护制度,可以从提高立法层次、合并行政执法与复审委员会、完善登记程序、完善权利救济等方面加以努力。本文旨在从国际法视野看待集成电路布图设计的知识产权保护问题。全文除引言和结论,共有四章。第一章介绍了集成电路布图设计的技术和法律特点,尤其是上述特点下不同的知识产权保护模式带来的利弊。第二章介绍了集成电路布图设计的国际条约法,包括华盛顿条约与TRIPS协定。第三章介绍了美国、日本、欧共体和韩国等各WTO成员的集成电路布图设计国内立法,并归纳总结了其各自的立法特点以及与TRIPS协定的对比分析。第四章则探讨了我国的集成电路布图设计知识产权保护模式,从立法和实践的角度进行归纳和论述。
【目录】
引言
第一章集成电路布图设计知识产权概述
第一节集成电路布图设计
一、集成电路布图设计概述
二、集成电路布图设计的特点
第二节集成电路布图设计的知识产权保护
—、集成电路布图设计保护的作用
二、集成电路布图设计的不同知识产权保护模式
三、集成电路布图设计的专门保护及其国际条约
本章小结
第二章集成电路布图设计的国际条约法
第一节《关于集成电路的知识产权条约》(华盛顿条约).
—、华盛顿条约的由来及现状
二、华盛顿条约的主要内容
第二节《与贸易有关的知识产权协定》(TRIPS协定)有关规定
一、TRIPS协定有关规定与华盛顿条约的关系
二、TRIPS协定的主要内容
三、TRIPS协定下WTO成员保护集成电路布图设计的义务
本章小结
第三章有关WTO成员立法之比较分析
第一节美国《半导体芯片保护法》
一、法的结构
二、法的内容
三、法的影响力
第二节其它国家/区域立法
—、日本《半导体集成电路的电路布局法》
二、欧共体《半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》
三、韩国《半导体集成电路布图设计法》
四、比较分析
本章小结
第四章我国集成电路布图设计保护模式探讨
第一节《集成电路布图设计保护条例》
一、权利内容
二、权利限制
三、保护期限
四、法律责任
第二节集成电路布图设计保护的实践
—、集成电路布图设计的行政登记
二、集成电路布图设计的司法保护
第三节立法及制度的完善建议
—、提高立法层次
二、合并布图设计行政执法委员会与复审委员会
三、完善布图设计的登记申请程序
四、完善权利救济的规定
本章小结
参考文献
后记
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